等离子去胶法,去胶气体为氧气。其工作原理是将硅片置于真空反应系统中,通入少量氧气,加1500V高压,由高频信号发生器产生高频信号,使石英管内形成强的电磁场,
使氧气电离,形成氧离子、活化的氧原子、氧分子和电子等混合物的必一运动B-sports官方网站的辉光柱。活化氧(活泼的原子态氧)可以迅速地将聚酰亚胺膜氧化成为可挥发性气体,被机
械泵抽走,这样就把硅片上的聚酰亚胺膜去除了。等离子去胶的优点是去胶操抄作简单、去胶效率高、表面干净光洁、无划痕、成本低、环保。
等离子去胶机去胶工艺是微加工过程中一个重要的过程,在电子束曝光,紫外曝光等微纳米加工工艺后,都要对光刻胶进行去除或打底膜处理。光刻胶是否去除干净对样片是
否有损伤等问题,将直接影响后续工艺的顺利完成。
上海沛沅PLUTO-MD等离子去胶机使用性能出色的组件和软件,可对工艺参数进行精确控制,它的工艺监测和数据采集软件可实现严格的质量控制。该技术已经成功的应用于
功率晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电、EMS/MOEMS、生物器件、LED等领域。
PCB板胶粘污染物的去除效果图
设备:Pluto-MD等离子去胶机 处理参数:13.56MHz,氧气

由上图可见,经过Pluto-MD等离子去胶机去胶处理后,PCB板的污染物极大程度的去除了,效果非常明显。Pluto-MD等离子去胶机具有工艺简单、可靠、效率高、处理后
无酸气废水等残留的有点。