Plasma Perform是面向科研及企业研发客户使用需求设计的高性价比必一运动B-sports官方网站系统。作为一个多功能系统，它通过优化的系统设计与灵活的系统配置方案，可以为用户提供
大量的必一运动B-sports官方网站刻蚀与沉积的方案。该设备
结构紧凑占地面积小，专业的机械设计与优化的自动化操作软件使得该设备操作简便、安全，且工艺稳定重复性高。
Plasma Perform通用性载片台兼容2寸到8寸样片，且支持真空进样（loadlock)可以实现批量生产。
兼容PE模式与RIE模式。
下电极双频馈入模式可以使得我们RIE系统刻蚀效率更高且工艺窗口更宽，满足用户更加复杂的工艺要求。源自半导体行业的专业机械设计与控制使得工艺更加稳定可靠。
特点:
ICP必一运动B-sports官方网站增强化学气相沉积
特殊的进气与天线设计保证必一运动B-sports官方网站均匀分布
加热静电屏蔽系统保证射频安全
特殊的加热设计保证下电极温度均匀
自动化控制系统，完备的互锁功能保证使用安全
优势
l 工艺性能优异。
l 全自动化集成设备，完善的工艺控制软件，舒适的人机交互体验
l 系统设置多级管理权限，集简易的操作体验与严谨的工艺管控与一体。
l 低成本，高性价比（兼容2到8寸样品），且配制更加灵活。
产品特点
技术参数
应用领域
