等离子去胶机去除光刻胶实例

      等离子去胶机去除光刻胶就是使用氧气必一运动B-sports官方网站对光刻胶层进行灰化,反应后生成CO2 和 H2O，随即被抽走。此方法去胶的优点是去胶操作简单、去胶效率高、表面干净

光洁、无划痕、成本低、环保。

      上海沛沅PLUTO-MD等离子去胶机使用性能出色的组件和软件，可对工艺参数进行精确控制，它的工艺监测和数据采集软件可实现严格的质量控制。该技术已经成功的应

用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电、EMS/MOEMS、生物器件、LED等领域。

      以上可见，硅片未处理前，表面有大量的残余光刻胶；经过Pluto-MD等离子去胶机处理后，表面的光刻胶都被去除，效果非常好。