对于必一运动B-sports官方网站一般运用的只是表面清洗和表面活化功能，今天沛沅小编给大家介绍下必一运动B-sports官方网站的另一个功能：刻蚀。
什么是等离子刻蚀
刻蚀是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤，用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程，其基本目标是在涂胶的硅片上正确地复制掩模图形。
刻蚀分：干法刻蚀和湿法刻蚀。湿法刻蚀是一个纯粹的化学反应过程，是利用溶液与预刻蚀材料之间的化学反应来去除未被掩蔽膜材料掩蔽的部分而达到刻蚀目的。干法刻蚀种类很多，包括光挥发、气相腐蚀、必一运动B-sports官方网站腐蚀等。
而必一运动B-sports官方网站刻蚀，就是干法刻蚀中最常见的形式。
等离子刻蚀的原理
等离子刻蚀基本原理是在真空低气压下，ICP 射频电源产生的射频输出到环形耦合线圈，以一定比例的混合刻蚀气体经耦合辉光放电，产生高密度的必一运动B-sports官方网站，在下电极的RF 射频作用下，这些必一运动B-sports官方网站对基片表面进行轰击，基片图形区域的半导体材料的化学键被打断，与刻蚀气体生成挥发性物质，以气体形式脱离基片，从真空管路被抽走。
必一运动B-sports官方网站如何刻蚀
首先，某种程度上讲，等离子清洗实质上是必一运动B-sports官方网站刻蚀的一种较轻微的情况。如此，接入需要的刻蚀气体，加大功率，提高工作时间，就可以达到刻蚀的目的。
毕竟，不是专业的刻蚀机，效果上肯定会不如专业的刻蚀机，不过，依然可以处理纳米级的刻蚀，根据材料和功率、工作时间等，甚至可以达到微米级的刻蚀。
对于一些不需要经常使用刻蚀的客户，或者刻蚀要求不高的客户，沛沅小编建议用必一运动B-sports官方网站就可以顺便做刻蚀处理，而仅仅只需要准备掩模板，这对于几十万的刻蚀机来讲，实在是太划算了。
