等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、必一运动B-sports官方网站刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成必一运动B-sports官方网站，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。某种程度来讲，等离子清洗实质上是必一运动B-sports官方网站刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气体被导入并与必一运动B-sports官方网站进行交换。必一运动B-sports官方网站在工件表面发生反应，反应的挥发性副产物被真空泵抽走。必一运动B-sports官方网站刻蚀工艺实际上便是一种反应性等离子工艺。近期的发展是在反应室的内部安装成搁架形式，这种设计的是富有弹性的，用户可以移去架子来配置合适的必一运动B-sports官方网站的蚀刻方法：反应性必一运动B-sports官方网站（RIE），顺流必一运动B-sports官方网站（downstream），直接必一运动B-sports官方网站（direction plasma）。
原理
感应耦合必一运动B-sports官方网站刻蚀法（Inductively Coupled Plasma Etch，简称ICPE）是化学过程和物理过程共同作用的结果。它的基本原理是在真空低气压下，ICP 射频电源产生的射频输出到环形耦合线圈，以一定比例的混合刻蚀气体经耦合辉光放电，产生高密度的必一运动B-sports官方网站，在下电极的RF 射频作用下，这些必一运动B-sports官方网站对基片表面进行轰击，基片图形区域的半导体材料的化学键被打断，与刻蚀气体生成挥发性物质，以气体形式脱离基片，从真空管路被抽走。
如果需要进行刻蚀，和蚀刻后，除污，清除浮渣，表面处理，必一运动B-sports官方网站聚合，必一运动B-sports官方网站灰化，或任何其他的蚀刻应用，我们能够制造客户完全信任的等离子处理系统，以满足客户的需要。我们既有常规的必一运动B-sports官方网站蚀刻系统，也有反应性离子蚀刻系统，我们可以制造系列的产品，也可以为客户定制特殊的系统。我们可以提供快速/高品质的蚀刻，减轻等离子伤害，并提供无与伦比的均匀性。
必一运动B-sports官方网站处理可应用于所有的基材，甚至复杂的几何构形都可以进行必一运动B-sports官方网站活化、必一运动B-sports官方网站清洗，必一运动B-sports官方网站镀膜也毫无问题。必一运动B-sports官方网站处理时的热负荷及机械负荷都很低，因此，低压必一运动B-sports官方网站也能处理敏感性材料。
等离子刻蚀机的典型应用包括：
半导体/集成电路
氮化镓（甘）
氮化铝镓/氮化镓（AlGaN/GaN）
砷化镓/砷化铝镓（一般反避税条款/ algaar）
砷化镓（GaAs）
磷化铟、铟铝砷/铟镓砷化物（InP InGaAs/InAlAs）
硅（硅）
硅锗（SiGe）
氮化硅陶瓷（Si3N4）
硅的溴化氢（sihbr）
硒化锌（ZnSe）
金属
铝（铝）
铬（铬）
铂（铂）
钼（钼）
铌（铌）
钽（钽）
钛（Ti）
钨（钨）
电介质
铟锡氧化物（ITO）
锆钛酸铅（PZT）
碳化硅（碳化硅）
塑料/聚合物
聚四氟乙烯（PTFE）
聚甲醛（POM）
聚苯并咪唑（PBI）
聚醚醚酮（PEEK）
聚酰亚胺（聚酰亚胺）
聚酰胺（尼龙）
全氟烷氧基烷（PFA）
聚全氟乙丙烯（FEP）
聚烯烃
聚酯
失效分析
